标准号：SJ/T 11079-1996
实施状态：现行
中文名称：掩模对准曝光机通用技术条件
英文名称：General specification of mask alignment and exposure system
组织分类：SJ
中标分类：N38
标准分类：QT
发布日期：1996-11-20
实施日期：1997-01-01
代替标准：GB 11481-1989
归口单位：无
起草单位：国营南光机器厂
范围：本标准规定了掩模对准曝光机的术语、技术要求、试验方法、检验规则等,还对供货作了规定。本标准仅适用于接触曝光以及同时具备接触曝光和接近曝光功能的掩模对准曝光机。
文件格式：PDF
文件大小：2.27MB
文件页数：10
（以上信息更新时间为：2019-05-03）
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SJ_T 11079-1996 掩模对准曝光机通用技术条件.pdf