SJ_T 10311-1992 低压化学气相淀积设备通用技术条件.pdf

标准号：SJ/T 10311-1992
实施状态：现行
中文名称：低压化学气相淀积设备通用技术条件
英文名称：Generic specification of low pressure chemical vapor deposition system
组织分类：SJ
中标分类：L99
标准分类：QT
发布日期：1992-06-05
实施日期：1992-12-01
归口单位：无
起草单位：国营建中机器厂
范围：本标准适用于卧式热壁型低压化学气相淀积设备(以下简称LPCVD设备)的设计、制造及工艺应用。其它形式的LPCVD设备的研制亦应参照使用。
文件格式：PDF
文件大小：2.16MB
文件页数：11
（以上信息更新时间为：2019-05-07）

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