YS_T 23-2016 硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法.pdf

标准号：YS/T 23-2016
实施状态：现行
中文名称：硅外延层厚度测定 堆垛层错尺寸法
英文名称：Test method for thickness of epitaxial layers. Stacking fault size
组织分类：YS
中标分类：H21
ICS分类：77.040
标准分类：QT
发布日期：2016-04-05
实施日期：2016-09-01
代替标准：YS/T 23-1992
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：南京国盛电子有限公司
范围：本标准规定了利用堆垛层错尺寸法测量硅外延层厚度的方法。本标准适用于在<111>、<100>、和<110>晶向的硅单晶衬底上生长的2μm～120μm硅外延层厚度的测量。
文件格式：PDF
文件大小：455.71KB
文件页数：8
（以上信息更新时间为：2019-03-27）

标准全文下载：