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GB_T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法.pdf

 

GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法:
标准号:GB/T 41153-2021
中文名称:碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定  二次离子质谱法
英文名称:Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
发布日期:2021-12-31
实施日期:2022-07-01
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管单位:国家标准化管理委员会
文件格式:PDF
文件大小:547.16KB
文件页数:6


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GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定  二次离子质谱法
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