标准号：GB/T 17866-1999
实施状态：现行
中文名称：掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
英文名称：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems
组织分类：GB
中标分类：L56
ICS分类：31.200
标准分类：CN
发布日期：1999-09-13
实施日期：2000-06-01
被替代标准：
代替标准：
采用标准：SEMI P23-1993,IDT
归口单位：SEMI中国标准化技术委员会
起草单位：中国科学院微电子中心
范围：本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括:含特制图形缺陷的测试芯片,以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单元集合而成,所以在本标准中,测试芯片是用单元图形、单元图形中的特制缺陷、以及单元的布局来定义的。此外,测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。过去的设备在灵敏度测试中,许多设备生产厂家和用户使用不同的掩模,而且每个厂家和用户各自决定不同的测试方法。在某些情况下,迄今还没有统一的测量方法或灵敏度分析方法。所以,在对各厂家的设备进行灵敏度比较时,在厂家与用户商定规范时,在用户与用户商定规范时,都免不了要发生混淆。所以在评估掩模缺陷检查系统的灵敏度时,最好采用本标准规定的测试掩模。
文件格式：PDF
文件大小：413.44KB
文件页数：13
（以上信息更新时间为：2019-04-30）
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GB_T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则.pdf
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