[国家标准] GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

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2 | 2023-11-22 20:26 | 显示全部楼层 |阅读模式

本文件描述了采用光反射法以 20°、60°或 85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试，不适用于表面有图形的硅片的测试。

标准编号：GB/T 42789-2023
中文名称：硅片表面光泽度的测试方法
英文名称：Test method for gloss of silicon wafer
发布日期：2023-08-06
实施日期：2024-03-01
引用标准：GB/T 9754;GB/T 14264;JJG 696-2015
提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
全文页数：9

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[国家标准] GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

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