标准号：GB/T 34649-2017
实施状态：现行
中文名称：磁控溅射用钌靶
英文名称：Magnetron sputtering ruthenium target
组织分类：GB
中标分类：H68
ICS分类：77.150.99
标准分类：CN
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-04-01
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：有研亿金新材料有限公司
范围：本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶(以下简称钌靶)。
文件格式：PDF
文件大小：493.45KB
文件页数：9
（以上信息更新时间为：2019-03-22）
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GB_T 34649-2017 磁控溅射用钌靶.pdf