收藏本站
开启辅助访问
切换到窄版
登录
立即注册
只需一步,快速开始
首页
搜索
帖子
用户
麦田学社
›
下载中心
›
技术分享
›
技术资料
›
SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范.pdf
版块导航
+
技术分享
·
技术资料
·
数据、文献
·
年鉴
·
报告、手册
热门下载
·
DB42_T 2376.2-2025 磷石膏建筑材料应用技术标准 第2部分:磷石膏砌体应用技术.pdf
·
DB42_T 2376.1-2025 磷石膏建筑材料应用技术标准 第1部分:通用要求.pdf
·
DB31_T 1576-2025 在用危险化学品常压储罐安全管理规范.pdf
·
DB31_T 1581-2025 中华绒螯蟹养殖过程中二噁英及其类似物污染防控技术规范.pdf
·
DB14_T 3432-2025 国土空间生态保护修复遥感动态监测与评价技术规范.pdf
·
DB31_T 1580-2025 崇明清水蟹绿色生产技术规程.pdf
·
DB14_T 3429-2025 全域土地综合整治项目可行性研究报告编制规范.pdf
·
DB2101_T 0129-2025.png
·
DB1301_T543-2025.png
·
DB1506_T 63-2025 政务服务数字政务门牌管理规范.pdf
麦田学社 ©
my678.cn
SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范.pdf
打开方式: Adobe Reader
资料大小: 508.21 KB
上传时间: 2010-12-02
下载
SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范.pdf
复制链接推荐给好友
SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范:
标准号:
SJ 20984-2008
实施状态:
现行
中文名称:
化学气相淀积(CVD)设备通用规范
英文名称:
General specification for chemical vapor deposition(CVD) equipment
组织分类:
SJ
中标分类:
L95
ICS分类:
31.240
标准分类:
QT
发布日期:
2008-04-15
实施日期:
2008-06-30
被替代标准:
代替标准:
归口单位:
无
起草单位:
中国电子科技集团公司第四十八研究所
范围:
本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备,其它行业的类似设备也可参照执行。
文件格式:
PDF
文件大小:
508.21KB
文件页数:
13
(以上信息更新时间为:2019-04-16)
标准全文下载:
点击下方链接查看更多内容。
下载
SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范.pdf