标准号：SJ 20984-2008
实施状态：现行
中文名称：化学气相淀积(CVD)设备通用规范
英文名称：General specification for chemical vapor deposition(CVD) equipment
组织分类：SJ
中标分类：L95
ICS分类：31.240
标准分类：QT
发布日期：2008-04-15
实施日期：2008-06-30
被替代标准：
代替标准：
归口单位：无
起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所
范围：本规范规定了化学气相淀积设备的要求、质量保证规定、交货准备。本规范适用于电子行业中光电子、微电子器件的研制和生产的化学气相淀积设备,其它行业的类似设备也可参照执行。
文件格式：PDF
文件大小：508.21KB
文件页数：13
（以上信息更新时间为：2019-04-16）
标准全文下载：
SJ 20984-2008 化学气相淀积(CVD)设备通用规范.pdf
(508.21 KB)
|
|
