[国家标准] GB/T 14619-2013 厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片

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查看6272 | 回复5 | 2013-11-14 07:18 | 显示全部楼层 |阅读模式
标准号:GB/T 14619-2013
实施状态:现行
中文名称:厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片
英文名称:Alumina ceramic substrates for thick film integrated circuits
组织分类:GB
中标分类:L90
ICS分类:31.030
标准分类:CN
发布日期:2013-11-12
实施日期:2014-04-15
代替标准:GB/T 14619-1993
归口单位:中国电子技术标准化研究院
起草单位:中国电子技术标准化研究院
范围:本标准规定了厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的要求、测试方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本标准适用于厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片的生产和采购,采用厚膜工艺的片式元件用氧化铝陶瓷基片(以下简称基片)也可参照使用。
文件格式:PDF
文件大小:417.15KB
文件页数:15
(以上信息更新时间为:2019-04-05)

标准全文下载:
GB_T 14619-2013 厚膜集成电路用氧化铝陶瓷基片.pdf (417.15 KB)

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