标准号：YS/T 893-2013
实施状态：现行
中文名称：电子薄膜用高纯钛溅射靶材
英文名称：High-purity sputtering titanium target used in electronic film
组织分类：YS
中标分类：H64
ICS分类：77.150.50
标准分类：QT
发布日期：2013-10-17
实施日期：2014-03-01
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：有研亿金新材料股份有限公司
范围：本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明与合同(订单)等内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。
文件格式：PDF
文件大小：218.34KB
文件页数：9
（以上信息更新时间为：2019-04-05）
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YS_T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材.pdf
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