标准号：GB/T 29506-2013
实施状态：现行
中文名称：300mm硅单晶抛光片
英文名称：300 mm polished mnonocrystalline silicon wafers
组织分类：GB
中标分类：H82
ICS分类：29.045
标准分类：CN
发布日期：2013-05-09
实施日期：2014-02-01
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
起草单位：有研半导体材料股份有限公司
范围：本标准规定了直径300mm、p型、(100)晶向、电阻率0.5Ω·cm～20Ω·cm规格的硅单晶抛光片的术语和定义、技术要求、试验方法、检测规则以及标志、包装、运输、贮存等。本标准适用于直径300 mm直拉单晶磨削片经双面抛光制备的硅单晶抛光片,产品主要用于满足集成电路IC用线宽90 nm技术需求的衬底片。
文件格式：PDF
文件大小：241.30KB
文件页数：9
（以上信息更新时间为：2019-04-06）
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GB_T 29506-2013 300mm硅单晶抛光片.pdf
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