YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶

显示全部楼层 · 2010-5-19 08:09

标准号：YS/T 719-2009
实施状态：现行
中文名称：平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶
英文名称：Flat magneting sputtering target. Silicon target for optical coating
组织分类：YS
中标分类：H63
ICS分类：77.150.99
标准分类：QT
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：利达光电股份有限公司
范围：本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
文件格式：PDF
文件大小：123.40KB
文件页数：6
（以上信息更新时间为：2019-04-13）

标准全文下载：

YS_T 719-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用硅靶.pdf (123.4 KB)

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