[国家标准] GB/T 11073-2007 硅片径向电阻率变化的测量方法

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查看7485 | 回复5 | 2011-3-29 09:10 | 显示全部楼层 |阅读模式
标准号:GB/T 11073-2007
实施状态:现行
中文名称:硅片径向电阻率变化的测量方法
英文名称:Standard method for measuring radial resistivity variation on silicon slices
组织分类:GB
中标分类:H17
ICS分类:77.040.01
标准分类:CN
发布日期:2007-09-11
实施日期:2008-02-01
被替代标准:
代替标准:GB/T 11073-1989
采用标准:ASTM F81-2001,MOD
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
起草单位:峨嵋山半导体材料厂
范围:本标准规定了用直排四探针法测量硅单晶片径向电阻率变化的方法。
本标准适用于厚度小于探针平均间距、直径大于15 mm、电阻率为1X10-3Ω·cm~3×103 Ω·cm硅单晶圆片径向电阻率变化的测量。

文件格式:PDF
文件大小:497.76KB
文件页数:14
(以上信息更新时间为:2019-04-17)

标准全文下载:
GB_T 11073-2007 硅片径向电阻率变化的测量方法.pdf (497.76 KB)

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