[国家标准] GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

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标准号:GB/T 20176-2006
实施状态:现行
中文名称:表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
英文名称:Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
组织分类:GB
中标分类:N33
ICS分类:71.040.40
标准分类:CN
发布日期:2006-03-27
实施日期:2006-11-01
被替代标准:
代替标准:
采用标准:ISO 14237-2000,IDT
归口单位:全国微束分析标准化技术委员会
起草单位:清华大学电子工程系
范围:本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3~1×10的20次方atoms/cm3。
文件格式:PDF
文件大小:693.52KB
文件页数:20
(以上信息更新时间为:2019-04-19)

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GB_T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.pdf (693.52 KB)

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