标准号：GB/T 19921-2005
实施状态：现行
中文名称：硅抛光片表面颗粒测试方法
英文名称：Test method of particles on silicon wafer surfaces
组织分类：GB
中标分类：H17
ICS分类：77.040.01
标准分类：CN
发布日期：2005-09-19
实施日期：2006-04-01
作废日期：2019-07-01
被替代标准：GB/T 19921-2018
归口单位：全国有色金属标准化技术委员
起草单位：北京有色金属研究总院
范围：本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片,也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷,但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能,并与检测时的初始设置有关。
文件格式：PDF
文件大小：543.47KB
文件页数：11
（以上信息更新时间为：2019-04-20）
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GB_T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法.pdf
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