标准号：GB/T 16879-1997
实施状态：现行
中文名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
英文名称：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
组织分类：GB
中标分类：L97
ICS分类：31.020
标准分类：CN
发布日期：1997-06-20
实施日期：1998-03-01
被替代标准：
代替标准：
采用标准：SEMI P21-1992,IDT
归口单位：电子工业部标准化研究所
起草单位：中国科学院微电子中心
范围：准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的,掩模制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以,曝光条件应经厂家和用户双方同意。
文件格式：PDF
文件大小：221.49KB
文件页数：9
（以上信息更新时间为：2019-05-02）
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GB_T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则.pdf
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