标准号：SJ 20714-1998
实施状态：现行
中文名称：砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法
英文名称：Test method for sub-surface damage of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction
组织分类：SJ
中标分类：H83
标准分类：QT
发布日期：1998-03-18
实施日期：1998-05-01
被替代标准：
代替标准：
归口单位：中国电子技术标准化研究所
起草单位：电子工业部第四十六研究所
范围：本标准规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。本标准适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓晶片亚损伤层的定性测量。
文件格式：PDF
文件大小：570.33KB
文件页数：4
（以上信息更新时间为：2019-05-02）
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SJ 20714-1998 砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法.pdf
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