SJ 21170-2016 MEMS惯性器件介质薄膜生长工艺技术要求

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查看4720 | 回复2 | 2016-12-15 16:24 | 显示全部楼层 |阅读模式
标准号:SJ 21170-2016
实施状态:现行
中文名称:MEMS惯性器件介质薄膜生长工艺技术要求
英文名称:Technical requirements for MEMS inertial device dielectric thin films deposition process
发布日期:2016-12-14
实施日期:2017-03-01
归口单位:工业和信息化部电子第四研究院
起草单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
文件格式:PDF
文件大小:2.64MB
文件页数:13
(以上信息更新时间为:2020-03-13)

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SJ 21170-2016 MEMS惯性器件介质薄膜生长工艺技术要求.pdf (2.64 MB)

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