标准号：SJ 21199-2016
实施状态：现行
中文名称：卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法
英文名称：Technological verification procedures for horizontal plasma enhanced chemical vapor deposition equipment
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
归口单位：工业和信息化部电子第四研究院
起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所
文件格式：PDF
文件大小：3.00MB
文件页数：13
（以上信息更新时间为：2020-03-13）
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SJ 21199-2016 卧式等离子体增强化学气相淀积(PECVD)设备工艺验证方法.pdf
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