标准号：SJ 21200-2016
实施状态：现行
中文名称：平板式等离子体增强化学气相淀积设备通用规范
英文名称：General specification for flat plasma enhanced chemical vapor deposition equipment
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
归口单位：工业和信息化部电子第四研究院
起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所
文件格式：PDF
文件大小：5.28MB
文件页数：18
（以上信息更新时间为：2020-03-13）
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SJ 21200-2016 平板式等离子体增强化学气相淀积设备通用规范.pdf
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