标准号：SJ 21203-2016
实施状态：现行
中文名称：特种器件双面光刻机通用规范
英文名称：General specification for double-side mask aligner lithography machine of special devices
发布日期：2016-12-14
实施日期：2017-03-01
归口单位：工业和信息化部电子第四研究院
起草单位：中国电子科技集团公司第四十五研究所
文件格式：PDF
文件大小：3.86MB
文件页数：19
（以上信息更新时间为：2020-03-13）
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