标准号：SJ 21128-2016
实施状态：现行
中文名称：卧式等离子体化学气相淀积设备(PECVD)通用规范
英文名称：General specification for horizontalPlasma enhanced chemical vapor deposition equipment
发布日期：2016-01-19
实施日期：2016-03-01
归口单位：工业和信息化部电子第四研究院
起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所
文件格式：PDF
文件大小：8.44MB
文件页数：20
（以上信息更新时间为：2020-03-13）
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SJ 21128-2016 卧式等离子体化学气相淀积设备(PECVD)通用规范.pdf
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