标准号：GB/T 34893-2017
实施状态：现行
中文名称：微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
英文名称：Micro-electromechanical system technology. Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
组织分类：GB
中标分类：L55
ICS分类：31.200
标准分类：CN
发布日期：2017-11-01
实施日期：2018-05-01
归口单位：全国微机电技术标准化技术委员会
起草单位：天津大学
范围：本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4％,宽深比不低于1:10,且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。
文件格式：PDF
文件大小：1.92MB
文件页数：12
（以上信息更新时间为：2019-03-22）
标准全文下载：
GB_T 34893-2017 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法.pdf
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