标准号：GB/T 24578-2015
实施状态：现行
中文名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
英文名称：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
组织分类：GB
中标分类：H17
ICS分类：77.040
标准分类：CN
发布日期：2015-12-10
实施日期：2017-01-01
作废日期： - -
代替标准：GB/T 24578-2009
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会;全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
起草单位：有研新材料股份有限公司
范围：本标准规定了使用全反射X光荧光光谱，定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。本标准适用于硅单晶抛光片、外延片(以下称硅片)，尤其适用于硅片清洗后自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的测定，测定范围为10^9 atoms/cm^2~10^15 atoms/cm^2。本标准同样适用于其他半导体材料，如砷化镓、碳化硅、SOI等镜面抛光晶片表面金属沾污的测定。对良好的镜面抛光表面，可探测深度约5nm，分析深度随表面粗糙度的改善而增大。本方法可检测元素周期表中原子序数16(S）~92(U)的元素，尤其适用于测定以下元素:钾、钙、钛、钒、铬、锰、铁、钻、镍、铜、锌、砷、钼、钯、银、锡、钽、钨、铂、金、汞和铅。
文件格式：PDF
文件大小：993.29KB
文件页数：13
（以上信息更新时间为：2019-03-28）
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