标准号：SJ/T 11491-2015
实施状态：现行
中文名称：短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量
英文名称：Test methods for measurement of interstitial oxygen content in silicon by short baseline infrared absorption spectrometry
组织分类：SJ
中标分类：H82
ICS分类：29.045
标准分类：QT
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
作废日期： - -
归口单位：全国半导体设备与材料标准化技术委员会
起草单位：信息产业专用材料质量监督检验中心
范围：本标准规定了用短基线红外光谱法测定硅中间隙氧含量。本标准适用于在室温下用短基线红外吸收法,测量低电阻率的n型硅单晶和p型硅单晶中间隙氧含量。测量氧含量的有效范围从1×1016at.cm-3至硅单晶中间隙氧的最大固溶度的测试。
文件格式：PDF
文件大小：1.84MB
文件页数：12
（以上信息更新时间为：2019-03-31）
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