[电子] SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法

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查看6492 | 回复4 | 2015-5-1 08:20 | 显示全部楼层 |阅读模式
标准号:SJ/T 11493-2015
实施状态:现行
中文名称:硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
英文名称:Test method for measuring nitrogen concentration in silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
组织分类:SJ
中标分类:H82
ICS分类:29.045
标准分类:QT
发布日期:2015-04-30
实施日期:2015-10-01
作废日期:    -  -
归口单位:全国半导体设备与材料标准化技术委员会
起草单位:信息产业专用材料质量监督检验中心
范围:本标准规定了用二次离子质谱法(SIMS)对硅衬底单晶体材料中氮总浓度的测试方法。本标准适用于锑、砷、磷的掺杂浓度<0.2%(1×1020at.cm-3)的单品样品,其中氮的浓度大于等于1×1014at.cm-3。
文件格式:PDF
文件大小:1.61MB
文件页数:12
(以上信息更新时间为:2019-03-31)

标准全文下载:
SJ_T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法.pdf (1.61 MB)

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