标准号：YS/T 1025-2015
实施状态：现行
中文名称：电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
英文名称：High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used
in electronic film
组织分类：YS
中标分类：H63
ICS分类：77.150.99
标准分类：QT
发布日期：2015-04-30
实施日期：2015-10-01
作废日期： - -
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：宁波江丰电子材料股份有限公司
范围：本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、订货单(成合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金截射靶材,以下简称高纯钨及钨合金靶。
文件格式：PDF
文件大小：614.99KB
文件页数：11
（以上信息更新时间为：2019-03-31）
标准全文下载：
YS_T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材.pdf
(614.99 KB)
|
|
