标准号：SJ/T 10274-1991
实施状态：现行
中文名称：掩模对准曝光机测试方法
英文名称：Test methods of mask alignment and exposure system
组织分类：SJ
中标分类：N38;L99
标准分类：QT
发布日期：1991-11-12
实施日期：1992-01-01
归口单位：无
起草单位：国营南光机器厂
范围：本标准规定了测试掩模对准曝光机(以下简称"曝光机")的一般要求和方法。本标准适用于接触式和接触一接近式曝光机。
文件格式：PDF
文件大小：1.64MB
文件页数：10
（以上信息更新时间为：2019-05-07）
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SJ_T 10274-1991 掩模对准曝光机测试方法.pdf
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