标准号：SJ 21382-2018
实施状态：现行
中文名称：离子注入均匀性测试方法
英文名称：Test method for the ion implantation uniformity
发布日期：2018-01-18
实施日期：2018-05-01
归口单位：工业和信息化部电子第四研究院
起草单位：工业和信息化部电子第四研究院;中国电子科技集团公司第二十四研究所;中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所;北京燕东微电子有限公司;中国电子科技集团公司第五十八研究所;西安电子科技大学;勤智数码科技股份有限公司
文件格式：PDF
文件大小：2.25MB
文件页数：10
（以上信息更新时间为：2020-03-13）
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