[电子] SJ 21382-2018 离子注入均匀性测试方法

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查看7280 | 回复5 | 2018-1-15 18:10 | 显示全部楼层 |阅读模式
标准号:SJ 21382-2018
实施状态:现行
中文名称:离子注入均匀性测试方法
英文名称:Test method for the ion implantation uniformity
发布日期:2018-01-18
实施日期:2018-05-01
归口单位:工业和信息化部电子第四研究院
起草单位:工业和信息化部电子第四研究院;中国电子科技集团公司第二十四研究所;中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所;北京燕东微电子有限公司;中国电子科技集团公司第五十八研究所;西安电子科技大学;勤智数码科技股份有限公司
文件格式:PDF
文件大小:2.25MB
文件页数:10
(以上信息更新时间为:2020-03-13)

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