XB/T 512-2020 镝、铽金属靶材

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本标准规定了镝、铽金属靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及质量证明书。本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材，主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。

标准编号：XB/T 512-2020
中文名称：镝、铽金属靶材
发布日期：2020-12-09
实施日期：2021-04-01
全文页数：7

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