SJ/T 10482-1994 半导体中深能级的瞬态电容测试方法

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查看5939 | 回复5 | 2010-11-15 06:31 | 显示全部楼层 |阅读模式
标准号:SJ/T 10482-1994
实施状态:现行
中文名称:半导体中深能级的瞬态电容测试方法
英文名称:Test method for characterizing semiconductor deep levels by transient capacitance techniques
组织分类:SJ
中标分类:L11
标准分类:QT
发布日期:1994-04-11
实施日期:1994-10-01
采用标准:ASTM F978-90,NEQ
归口单位:电子工业部标准化研究所
起草单位:电子工业部第四十六研究所
范围:本标准规定了用瞬态电容技术中的深能级瞬态谱(DLTS)法测量半导体材料中深能级的测试方法。本标准适用于测量硅、砷化嫁等半导体材料中杂质、缺陷在半导体禁带中产生的深能级。由此法可得到深能级的激活能、浓度、指数前因子A等参数。本标准适用于产生指数形式电容瞬态有关的深能级。
文件格式:PDF
文件大小:991.61KB
文件页数:6
(以上信息更新时间为:2019-05-05)

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SJ_T 10482-1994 半导体中深能级的瞬态电容测试方法.pdf (991.61 KB)

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