标准号：SJ 21479-2018
实施状态：现行
中文名称：磷化铟晶片研磨工艺技术要求
英文名称：Technical requirements for the lapping process of InP wafer
发布日期：2018-12-29
实施日期：2019-03-01
归口单位：工业和信息化部电子第四研究院
起草单位：中国电子科技集团公司第十三研究所
文件格式：PDF
文件大小：1.59MB
文件页数：8
（以上信息更新时间为：2020-03-13）
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SJ 21479-2018 磷化铟晶片研磨工艺技术要求.pdf
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