SJ/T 11507-2015 集成电路用 氧化层缓冲腐蚀液

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查看2196 | 回复5 | 2015-5-1 22:06 | 显示全部楼层 |阅读模式
标准号:SJ/T 11507-2015
实施状态:现行
中文名称:集成电路用 氧化层缓冲腐蚀液
英文名称:Oxide coating etching buffer for integrated circuit
组织分类:SJ
中标分类:L90
ICS分类:31.030
标准分类:QT
发布日期:2015-04-30
实施日期:2015-10-01
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
起草单位:江阴润玛电子材料股份有限公司
范围:本标准规定了集成电路用氧化层缓冲腐蚀液的术语、性状、技术要求、试验方法、检验规则和包装、标志、储存、运输等。本标准适用于集成电路用氧化层缓冲腐蚀液。本标准不涉及使用安全性问题。本标准的使用人应负责建立适当的安全健康条款及使用范围的限制。
文件格式:PDF
文件大小:2.47MB
文件页数:16
(以上信息更新时间为:2019-03-31)

标准全文下载:
SJ_T 11507-2015 集成电路用 氧化层缓冲腐蚀液.pdf (2.47 MB)

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