收藏本站
开启辅助访问 切换到窄版
麦田学社 › 标签 › 溅射

tag 标签: 溅射

相关帖子

 版块
SJ 21257-2018 离子束溅射镀膜设备通用规范 attachment 行业标准
SJ 21256-2018 溅射镀膜设备工艺验证方法 attachment 行业标准
SJ 21529-2018 多层共烧陶瓷. 表层溅射工艺技术要求 attachment 行业标准
JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备 attachment 行业标准
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材 attachment 行业标准
GB/T 29557-2013 表面化学分析 深度剖析 溅射深度测量 attachment 国家标准
YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材 attachment 行业标准
GB/T 31227-2014 原子力显微镜测量溅射薄膜表面粗糙度的方法 attachment 国家标准
YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材 attachment 行业标准
YS/T 1024-2015 溅射用钽靶材 attachment 行业标准
YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法 attachment 行业标准
GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶 attachment 国家标准
更多...